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GAII新品自动匀胶机
新品自动匀胶机型号：GAII 滴胶量程 0.1-5000μl 滴胶重复性 ≤±0.01%

更新时间：2025-05-04型号：GAII浏览量：1315

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HAD-W4C匀胶机
匀胶机型号：HAD-W4C 度标基片尺寸 5- 150mm 速度范围 1- 10000RPM 转速度 1RPM 转速稳定度 ±0.1% 加速度范围 1 - 10000RPM/S 胶均匀性 ±1% 控制信号标人机界面 4.3 寸触摸屏通信接口 USB

更新时间：2026-09-14型号：HAD-W4C浏览量：959

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HAKW-4A北京匀胶机
北京匀胶机/旋涂仪/旋转涂膜机/旋涂机/匀胶台甩胶机型号;HAKW-4A 的HAKW型匀胶机适应于半导体硅片，载玻片，晶片，基片，ITO导电玻璃等，制版的表面涂覆。该产品具有转速稳定和启动迅速等优点，并能保证半导体材料中涂胶厚度的*性和均匀性。通常配真空泵起使用。目前的型号有HAKW-4A型和HAKW-5型。产品主要点：

更新时间：2026-05-13型号：HAKW-4A浏览量：1208

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HAD-C128涂敷法浸渍提拉匀胶机
涂敷法浸渍提拉匀胶机主要用于材料浸入液体，胶体中经提拉在表面形成薄膜，适用于硅片，晶片，玻璃，陶瓷，木材，金属等所有固体材料表面涂覆工艺。可在科研，教育，生产中应用。

更新时间：2026-05-13型号：HAD-C128浏览量：1420

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HYXH-2010A旋转匀胶机
旋转匀胶机采用大体积（NaI）闪烁晶体，配用灵敏光电倍增管，对χ、γ射线具有的探测灵敏度，仪器能量响应宽，能量探测下限低，具有射线反符合能，可用于门测量人放射性。仪器具有数据贮存能、数据传输能，并可多台联网，构成环境χ、γ射线监测网络。别适用于环保

更新时间：2026-09-14型号：HYXH-2010A浏览量：1375

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HAKW-4A匀胶机
的HAKW型匀胶机适应于半导体硅片，载玻片，晶片，基片，ITO导电玻璃等，制版的表面涂覆。该产品具有转速稳定和启动迅速等优点，并能保证半导体材料中涂胶厚度的*性和均匀性。

更新时间：2026-07-20型号：HAKW-4A浏览量：997

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